透明导电膜用保护膜形成组合物的制作方法

透明导电膜用保护膜形成组合物的制作方法
【专利摘要】本发明提供透明导电膜用保护膜形成组合物，其含有包含由下述式(1)表示的重复单元结构的含三嗪环超支化聚合物以及分子量1,000以上的交联剂。(式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或者芳烷基；Ar表示特定的含芳香环的基团。)
【专利说明】
透明导电膜用保护膜形成组合物
技术领域
[0001] 本发明涉及透明导电膜用保护膜形成组合物。
【背景技术】
[0002] 目前，作为透明导电膜材料，主要使用氧化铟锡（ΙΤ0)、氧化铟锌（ΙΖ0)等，它们正 在成为显示出良好的光学透明性和导电性的标准材料。然而，为了获得它们的无机氧化物 膜，必须进行溅射、高真空中、高温退火等复杂的工艺。因此，需要特殊的设备，存在着高成 本的问题。
[0003] 电子器件随着塑料基板等的使用而正在实现弹性化、轻量化，需要能承受弯曲等 物理应力的耐久性。虽然人们也正在研究对于弹性基板的ΙΤ0和ΙΖ0的制膜技术，但无机氧 化物的脆弱性且易损伤性等性质尚未得到改善。
[0004] 近年来，随着弹性化的进行，人们正在开发具有导电性纳米结构(金属纳米粒子和 金属纳米线的透过(percolation)结构、金属网状物(mesh)结构等）的透明导电膜。如果使 用金属纳米粒子或金属纳米线分散液，就能采用湿式工艺制作透明导电膜(专利文献1~ 3) 〇
[0005] 具有导电性纳米结构的透明导电膜，不需要复杂的工艺，而仅仅通过增加其含有 的金属量，就能降低其电阻。然而，由于金属量的增加，因光的漫反射而引起白浊化，招致光 学透明性蒙受损失，而且，由于是金属，存在因表面劣化或结构体破坏而导致的失去导电性 的问题。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1:特开2009 - 505358号公报 [0009] 专利文献2:特开2013 - 77234号公报 [0010] 专利文献3:特开2010 -108877号公报 [0011] 专利文献4:国际公开第2010/128661号

【发明内容】

[0012] 发明所要解决的课题
[0013] 本发明就是鉴于上述情况而进行的，目的在于，提供能够改善具有导电性纳米结 构的透明导电膜的可见性的、而且具有抑制透明导电膜劣化的效果的、可形成透明导电膜 用保护膜的组合物。
[0014] 用于解决课题的手段
[0015] 本发明人等为了达成上述目的而进行了精心的研究，结果发现，含有特定的含三 嗪环超支化聚合物和分子量1，〇〇〇以上的交联剂的组合物，可形成能够改善透明导电膜的 可见性的膜，该膜具有高温高湿耐性，因此适合用作透明导电膜用保护膜，至此完成了本发 明。
[0016] 即，本发明提供下述透明导电膜用保护膜形成组合物。
[0017] 1、透明导电膜用保护膜形成组合物，其特征在于，其含有包含由下述式（1)表示的 重复单元结构的含三嗪环超支化聚合物以及分子量1，〇〇〇以上的交联剂A:
[0018] [化1]
[0020] {式中，R和R'相互独立地表不氣原子、烷基、烷氧基、芳基或者芳烷基；
[0021] Ar表示选自由式(2)~（13)所示基团构成的组中的至少1种基团；
[0022] [化2]
[0024] [式中，R1~R92相互独立地表示氢原子、卤原子、羧基、磺基、碳数1~10的烷基或者 碳数1~10的烷氧基；
[0025] R93和R94表示氢原子或者碳数1~10的烷基；
[0026] W1和W2相互独立地表示单键、一C(R95) (R96) - (R95和R96相互独立地表示氢原子或 者碳数1~10的烷基；当R95和R96皆为烷基时，它们也可以相互键合并与它们键合的碳原子 一起形成环）、一C(0) -、一0-、一S-、一 S(0) -、一S(0)2 - 或者一N(R97) - (R97 表不氢原子 或者碳数1~10的烷基）；
[0027] X1和X2相互独立地表示单键、碳数1~10的亚烷基或者由式（14)表示的基团；
[0028][化3]
[0030](式中，R98~R1Q1相互独立地表示氢原子、卤原子、羧基、磺基、碳数1~10的烷基或 者碳数1~10的烷氧基；
[0031] Y1和Y2相互独立地表示单键或者碳数1~10的亚烷基）]}。
[0032] 2、1所述的组合物，其中，交联剂A为多官能（甲基)丙烯酸系化合物。
[0033] 3、1或2的组合物，其中，相对于上述含三嗪环超支化聚合物100质量份，含有交联 剂A 0.1~30质量份。
[0034] 4、1~3的任1项所述的组合物，其中还含有分子量低于1,000的交联剂B。
[0035] 5、4所述的组合物，其中，交联剂B为多官能（甲基)丙烯酸系化合物。
[0036] 6、4或5所述的组合物，其中，相对于交联剂A 100质量份，含有交联剂B 0.5~400 质量份。
[0037] 7、1~6的任1项所述的组合物，其中还含有溶剂。
[0038] 8、透明导电膜用保护膜，其为通过使1~7的任1项所述的组合物固化而得到的。
[0039] 9、8所述的保护膜，其中，透明导电膜为具有导电性纳米结构的透明导电膜。
[0040] 10、9所述的保护膜，其中，导电性纳米结构为银纳米线。
[0041] 11、透明电极，其具备透明导电膜以及在该透明导电膜上形成的8所述的保护膜。
[0042] 12、电子器件，其具备透明导电膜以及在该透明导电膜上形成的8所述的保护膜。
[0043] 13、12所述的电子器件，其为有机电致发光显示器。
[0044] 发明的效果
[0045] 使用本发明的透明导电膜用保护膜形成组合物形成的保护膜，因其透明性高，折 射率也高，故可以改善透明导电膜的可见性，进而由于其耐热性、高温高湿耐性也高，因此 能够抑制透明导电膜的劣化。即，使用本发明的组合物制作的保护膜，能够适用于透明导电 膜用保护膜。
【附图说明】
[0046] 图1为合成例1中制得的HB - TmDA40的1H-NMR谱图。
[0047]图2为示出合成例1中制得的HB - TmDA40的TG-DTA测定结果的曲线图。
【具体实施方式】
[0048] [含三嗪环超支化聚合物]
[0049] 本发明的透明导电膜用保护膜形成组合物含有包含由下述式（1)表示的重复单元 的含三嗪环超支化聚合物。
[0050] [化4]
[0052] 式中，R和R'相互独立地表不氣原子、烷基、烷氧基、芳基或者芳烷基。
[0053]上述烷基的碳数没有特殊限定，优选为1~20,如果考虑要进一步提高聚合物的耐 热性，更优选为1~10,进一步优选为1~3。另外，其结构可以是直链状、支链状、环状中的任 一种。
[0054] 作为烷基的具体例，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基、正丁基、异丁 基、仲丁基、叔丁基、环丁基、1 一甲基一环丙基、2 -甲基一环丙基、正戊基、1 一甲基一正丁 基、2-甲基一正丁基、3-甲基一正丁基、1，1一二甲基一正丙基、1,2-二甲基一正丙基、2， 2- 二甲基一正丙基、1 一乙基一正丙基、环戊基、1 一甲基一环丁基、2-甲基一环丁基、3 - 甲基一环丁基、1，2-二甲基一环丙基、2，3-二甲基一环丙基、1 一乙基一环丙基、2-乙 基一环丙基、正己基、1 一甲基一正戊基、2-甲基一正戊基、3-甲基一正戊基、4 一甲基一正 戊基、1,1一二甲基一正丁基、1,2-二甲基一正丁基、1,3-二甲基一正丁基、2,2-二甲 基一正丁基、2,3 -二甲基一正丁基、3,3 -二甲基一正丁基、1 一乙基一正丁基、2 -乙基一 正丁基、1,1，2-二甲基一正丙基、1，2,2-二甲基一正丙基、1一乙基一1一甲基一正丙基、 1 一乙基一 2 -甲基一正丙基、环己基、1 一甲基一环戊基、2-甲基一环戊基、3-甲基一环戊 基、1 一乙基一环丁基、2 -乙基一环丁基、3 -乙基一环丁基、1,2 -二甲基一环丁基、1,3 - 二甲基一环丁基、2,2-二甲基一环丁基、2,3-二甲基一环丁基、2,4一二甲基一环丁基、3， 3- 二甲基一环丁基、1 一正丙基一环丙基、2-正丙基一环丙基、1 一异丙基一环丙基、2-异 丙基一环丙基、1，2,2-三甲基一环丙基、1，2,3-三甲基一环丙基、2,2,3 -三甲基一环丙 基、1 一乙基一2 -甲基一环丙基、2 -乙基一 1 一甲基一环丙基、2 -乙基一2 -甲基一环丙 基、2 -乙基一3 -甲基一环丙基等。
[0055]上述烷氧基的碳数没有特殊限定，优选为1~20,如果考虑要进一步提高聚合物的 耐热性，更优选为1~10,进一步优选为1~3。另外，其烷基部分的结构可以是直链状、支链 状、环状中的任一种。
[0056] 作为烷氧基的具体例，可列举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、 异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、1 一甲基一正丁氧基、2-甲基一正丁氧基、3-甲 基一正丁氧基、1，1 一二甲基一正丙氧基、1，2 -二甲基一正丙氧基、2，2-二甲基一正丙氧 基、1 一乙基一正丙氧基、正己氧基、1 一甲基一正戊氧基、2-甲基一正戊氧基、3-甲基一正 戊氧基、4一甲基一正戊氧基、1，1一二甲基一正丁氧基、1，2 -二甲基一正丁氧基、1，3-二 甲基一正丁氧基、2,2 -二甲基一正丁氧基、2,3 -二甲基一正丁氧基、3,3 -二甲基一正丁 氧基、1 一乙基一正丁氧基、2-乙基一正丁氧基、1，1，2 -二甲基一正丙氧基、1，2，2-二甲 基一正丙氧基、1 一乙基一 1 一甲基一正丙氧基、1 一乙基一2-甲基一正丙氧基等。
[0057]上述芳基的碳数没有特殊限定，优选为6~40,如果考虑要进一步提高聚合物的耐 热性，更优选为6~16,进一步优选为6~13。作为芳基的具体例，可列举出苯基、α-萘基、 β-蔡基、1 -蒽基、2 -蒽基、9 -蒽基、1 -菲基、2 -菲基、3 -菲基、4 -菲基、9 -菲基等。 [0058]另外，上述芳基的氢原子的一部分或者全部也可以被氟、氯、溴、碘等卤原子、碳数 1~10的烷基、碳数1~10的烷氧基、硝基、氰基、苯基等取代。作为取代芳基的具体例，可列 举出邻氯苯基、间氯苯基、对氯苯基、邻氟苯基、对氟苯基、邻甲氧基苯基、对甲氧基苯基、对 硝基苯基、对氛基苯基、邻联苯基、间联苯基、对联苯基等。
[0059] 芳烷基的碳数没有特殊限定，优选为7~20,更优选为7~17,进一步优选为7~14。 其亚烷基部分可以是直链状、支链状、环状中的任一种。作为芳烷基的具体例，可列举出苄 基、苯乙基、1 -蔡基甲基等。
[0060] 另外，上述芳烷基的氢原子的一部分或者全部也可以被氟、氯、溴、碘等卤原子、碳 数1~10的烷基、碳数1~10的烷氧基、硝基、氰基、苯基等取代。作为取代芳烷基的具体例， 可列举出对甲基苯基甲基、间甲基苯基甲基、邻乙基苯基甲基、间乙基苯基甲基、对乙基苯 基甲基、2-丙基苯基甲基、4 一异丙基苯基甲基、4 一异丁基苯基甲基等。
[0061] 式中，Ar表示选自由式(2)~（13)表示基团构成的组中的至少1种基团。
[0062] [化5]
[0064] 式中，R1~R92相互独立地表示氢原子、卤原子、羧基、磺基、碳数1~10的烷基或者 碳数1~10的烷氧基。
[0065] R93和R94表示氢原子或者碳数1~10的烷基。
[0066] W1和W2相互独立地表示单键、一C(R95) (R96) - (R95和R96相互独立地表示氢原子或 者碳数1~10的烷基；当R95和R96皆为烷基时，它们也可以相互键合并与它们键合的碳原子 一起形成环）、一C(0) -、一0-、一S-、一 S(0) -、一S(0)2 - 或者一N(R97) - (R97 表不氢原子 或者碳数1~10的烷基）。
[0067] X1和X2相互独立地表示单键、碳数1~10的亚烷基或者由式（14)表示的基团。
[0068][化6]
[0070] 式中，R98~R1Q1相互独立地表示氢原子、卤原子、羧基、磺基、碳数1~10的烷基或者 碳数1~10的烷氧基。Y 1和Y2相互独立地表示单键或者碳数1~10的亚烷基。
[0071] 作为由R1~R1()1表示的卤原子，可列举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。另外，作 为由R 1~R1(n表示的烷基、烷氧基，可列举出与作为R和R'所示例同样的基团，特别优选直链 状或者支链状的基团。
[0072]作为碳数1~10的亚烷基，可列举出从作为R和R '所示例的烷基中除去1个氢原子 而形成的基团，特别优选直链状或者支链状的基团，具体可列举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、 三亚甲基、四亚甲基、五亚甲基等。
[0073]特别地，作为Ar，优选由式（2)、（5)~（13)表示的基团，更优选由式(2)、（5)、（7)、 (8)、（11)~（13)表示的基团。作为由式(2)~（13)表示的基团的具体例，可列举出由下述式 表示的基团，但不限定于这些基团。
[0074][化7]
[0076] 这些之中，从获得更高折射率的聚合物考虑，更优选由下述式表示的基团。
[0077] [化8]
[0079] 如果要特别地考虑在有机溶剂等中的溶解性，本发明中使用的超支化聚合物优选 含有由式(15)表示的重复单元。
[0080] [化9]
[0082] (式中，R、R'和R1~R4如上所述。）
[0083] 从这种观点出发，作为特别优选的重复单元结构，可列举出由下述式（16)表示的 结构，以下述式(17)表示的超支化聚合物为最佳。
[0084] [化 10]
[0086] (式中，R和R'如上所述。）
[0087] [化11]
[0089] 对于本发明中使用的超支化聚合物的重均分子量(Mw)没有特殊限定，优选为500 ~500,000，更优选为1，000~100,000。从进一步提高耐热性同时降低收缩率的观点考虑， Mw的下限优选为2，000，从进一步提高溶解性、降低所获溶液的粘度的观点考虑，其上限优 选为50，000，更优选为30，000，进一步优选为10，000。予以说明，本发明中，Mw是通过凝胶渗 透色谱法(GPC)分析测定的标准聚苯乙烯换算值。
[0090] [含三嗪环超支化聚合物的制备方法]
[0091] 本发明中使用的含三嗪环超支化聚合物可以采用专利文献4中公开的方法来制 备。
[0092] 例如，如下述流程图1所示，超支化聚合物(20)可以通过使氰尿酰卤（18)和间苯二 胺化合物(19)在适当的有机溶剂中进行反应来获得。
[0093] [化 12]
[0094] 流程图1
[0096](式中，R和R '如上所述。X相互独立地表示卤原子。）
[0097] 如下述流程图2所示，超支化聚合物（20)也可以用通过等量的氰尿酰卤（18)和间 苯二胺化合物(19)在适当的有机溶剂中反应而得到的化合物(20 '）来合成。
[0098] [化13]
[0099] 流程图2
[0101] (式中，R、R'和X如上所述。）
[0102] 在流程图1和2的方法中，作为各原料的投入量，只要能获得目标聚合物就可以是 任意的，相对于三嗪化合物（18) 1当量，二胺化合物（19)优选为0.01~10当量。但是，在流程 图1的方法中，相对于氰尿酰卤（18)2当量，最好避免使用3当量的二胺化合物（19)。通过将 官能团的当量数错开一些，就可以防止生成凝胶化物。
[0103] 为了获得各种分子量的、具有多个三嗪环末端的超支化聚合物，相对于氰尿酰卤 (18)2当量，优选按低于3当量的量使用二胺化合物（19)。例如，在制作薄膜的情况下，从具 有优良的透明性和耐光性方面考虑，优选是具有多个三嗪环末端的超支化聚合物。
[0104] 另一方面，为了获得各种分子量的、具有多个胺末端的超支化聚合物，相对于二胺 化合物（19)3当量，优选按低于2当量的量使用氰尿酰卤（18)。
[0105] 如此，通过适宜调节二胺化合物（19)或氰尿酰卤（18)的量，可以容易地调节所获 超支化聚合物的分子量。
[0106] 作为上述有机溶剂，可以使用在这种反应中通常使用的各种溶剂，可列举出例如， 四氢呋喃、二口恶烷、二甲亚砜;N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基一2-吡咯烷酮、四甲基脲、六甲 基磷酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基一2-哌啶酮、N，N-二甲基亚乙基脲、N，N，N'，N'一 四甲基丙二酰胺、N-甲基己内酰胺、N-乙酰基吡咯烷、N，N-二乙基乙酰胺、N-乙基一 2 - 吡咯烷酮、N，N-二甲基丙酰胺、N，N-二甲基异丁基酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N'一二甲基亚 丙基脲等酰胺系溶剂、以及它们的混合溶剂。
[0107] 其中，优选N，N-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、N-甲基一2-吡咯烷酮、N，N-二甲基 乙酰胺以及它们的混合溶剂，特别优选N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基一 2-吡咯烷酮。
[0108] 流程图1和流程图2的第2阶段的反应中，反应温度只要在从所用溶剂的熔点至沸 点的范围内适宜设定即可，优选为0~150°C左右，更优选为60~100°C。特别地，在流程图1 的反应中，从抑制线性、提高支链度的观点考虑，反应温度优选为60~150°C，更优选为80~ 150 °C，进一步优选为80~120 °C。
[0109] 在流程图2的第1阶段的方法中，反应温度只要在从所用溶剂的熔点至溶剂的沸点 的范围内适宜设定即可，优选为一50~50°C左右，更优选为一20~50°C左右，进一步优选 为一 10~50°C左右，更进一步优选为一 10~10°C。特别是在流程图2的方法中，优选采用2阶 段工序，其中包含在一50~50°C下进行反应的第1工序、以及在该工序之后在60~150°C下 进行反应的第2工序。
[0110] 上述各反应中，各成分的配合顺序是任意的，在流程图1的反应中，最适宜的方法 是，将含有氰尿酰卤（18)或者二胺化合物（19)以及有机溶剂的溶液加热至60~150 °C、优选 80~150°C，在该温度下，向该溶液中加入二胺化合物(19)或者氰尿酰卤（18)。
[0111] 该情况下，预先溶解于溶剂中的成分以及后续加入的成分不管是哪一种都可以， 优选是向二胺化合物(19)的加热溶液中添加氰尿酰卤（18)的方法。
[0112] 另外，在流程图2的反应中，预先溶解于溶剂中的成分以及后续加入的成分不管是 哪一种都可以，优选是向氰尿酰卤（18)的冷却溶液中添加二胺化合物（19)的方法。后续加 入的成分可以按纯物质的形式加入，也可以按上述那样溶解于有机溶剂中而成的溶液加 入，如果考虑到操作的容易性和对反应易于控制等，优选后者的方法。另外，后续加入的成 分可以是采用滴加等缓慢加入，也可以是将全量一次性地加入。
[0113]流程图1中，将已加热的状态的两种化合物混合后，即使在按一阶段(不是阶段性 地提高温度)使其反应的情况下，也可以在不发生凝胶化的条件下得到作为目标产物的含 三嗪环超支化聚合物。
[0114] 另外，在上述流程图1和流程图2的第2阶段的反应中，在聚合时或者在聚合后，也 可以添加通常使用的各种碱。作为该碱的具体例，可列举出碳酸钾、氢氧化钾、碳酸钠、氢氧 化钠、碳酸氢钠、乙醇钠、乙酸钠、碳酸锂、氢氧化锂、氧化锂、乙酸钾、氧化镁、氧化1丐、氢氧 化钡、磷酸三锂、磷酸三钠、磷酸三钾、氟化铯、氧化铝、氨、三甲胺、三乙胺、二异丙胺、二异 丙基乙基胺、N-甲基哌啶、2，2,6,6-四甲基一N-甲基哌啶、吡啶、4一二甲氨基吡啶、N- 甲基吗啉等。
[0115] 相对于氰尿酰卤（18)1当量，碱的添加量优选为1~100当量，更优选1~10当量。予 以说明，这些碱也可以制成水溶液来使用。
[0116] 在任一个流程图的方法中，在反应结束后，生成物都可以采用再沉淀法等来容易 地进行精制。
[0117] 予以说明，本发明中，也可以将至少1个末端三嗪环的一部分卤原子，用烷基、芳烷 基、芳基、烷基氣基、含有烷氧基甲娃烷基的烷基氣基、芳烷基氣基、芳基氣基、烷氧基、芳烧 氧基、芳氧基、酯基等进彳丁封端。
[0118] 其中，优选烷基氣基、含有烷氧基甲娃烷基的烷基氣基、芳烷基氣基、芳基氣基，更 优选烷基氨基、芳基氨基，进一步优选芳基氨基。
[0119] 作为上述烷基、烷氧基、芳基和芳烷基，可列举出与作为R和R'所示例的同样的基 团。
[0120] 作为酯基的具体例，可列举出甲氧基羰基、乙氧基羰基等。
[0121]作为烷基氨基的具体例，可列举出甲氨基、乙氨基、正丙氨基、异丙氨基、正丁氨 基、异丁氨基、仲丁氨基、叔丁氨基、正戊氨基、1 一甲基一正丁氨基、2-甲基一正丁氨基、 3-甲基一正丁氨基、1，1一二甲基一正丙氨基、1，2 -二甲基一正丙氨基、2,2-二甲基一正 丙氨基、1 一乙基一正丙氨基、正己氨基、1 一甲基一正戊氨基、2-甲基一正戊氨基、3-甲 基一正戊氨基、4 一甲基一正戊氨基、1，1一二甲基一正丁氨基、1，2 -二甲基一正丁氨基、1， 3 -二甲基一正丁氨基、2,2 -二甲基一正丁氨基、2,3 -二甲基一正丁氨基、3,3-二甲基一 正丁氨基、1一乙基一正丁氨基、2-乙基一正丁氨基、1，1，2 -三甲基一正丙氨基、1，2,2 - 二甲基一正丙氨基、1 一乙基一 1 一甲基一正丙氨基、1 一乙基一2-甲基一正丙氨基等。
[0122] 作为芳烷基氨基的具体例，可列举出苄氨基、甲氧基羰基苯基甲氨基、乙氧基羰基 苯基甲氨基、对甲基苯基甲氨基、间甲基苯基甲氨基、邻乙基苯基甲氨基、间乙基苯基甲氨 基、对乙基苯基甲氨基、2-丙基苯基甲氨基、4 一异丙基苯基甲氨基、4 一异丁基苯基甲氨 基、萘基甲氨基、甲氧基羰基萘基甲氨基、乙氧基羰基萘基甲氨基等。
[0123] 作为芳基氨基的具体例，可列举出苯氨基、甲氧基羰基苯氨基、乙氧基羰基苯氨 基、奈氣基、甲氧基幾基奈氣基、乙氧基幾基奈氣基、恩氣基、花氣基、耳关苯基氣基、二耳关苯基 氨基、芴氨基等。
[0124] 作为含有烷氧基甲娃烷基的烷基氣基，可以是含有单烷氧基甲娃烷基的烷基氣 基、含有二烷氧基甲硅烷基的烷基氨基、含有三烷氧基甲硅烷基的烷基氨基中的任一种，作 为其具体例，可列举出3 -三甲氧基甲硅烷基丙氨基、3 -三乙氧基甲硅烷基丙氨基、3-二 甲基乙氧基甲硅烷基丙氨基、3-甲基二乙氧基甲硅烷基丙氨基、N -（2-氨乙基）一3-二 甲基甲氧基甲硅烷基丙氨基、N -（2-氨乙基）一3-甲基二甲氧基甲硅烷基丙氨基、N - (2-氨乙基）一3-二甲氧基甲娃烷基丙氨基等。
[0125] 作为芳氧基的具体例，可列举出苯氧基、萘氧基、蒽氧基、芘氧基、联苯基氧基、三 联苯基氧基、勿氧基等。
[0126] 作为芳烷氧基的具体例，可列举出苄氧基、对甲基苯基甲氧基、间甲基苯基甲氧 基、邻乙基苯基甲氧基、间乙基苯基甲氧基、对乙基苯基甲氧基、2-丙基苯基甲氧基、4 一异 丙基苯基甲氧基、4 一异丁基苯基甲氧基、α-萘基甲氧基等。
[0127] 这些基团可以通过用能够提供与三嗪环上的卤原子对应的取代基的化合物进行 取代来容易地引入，例如，如下述式流程图3所示，通过加入苯胺衍生物使其反应，可以得到 至少在1个末端上具有苯氨基的超支化聚合物(21)。
[0128] [化 14]
[0129] 流程图3
[0131] (式中，R、R'和X如上所述。）
[0132] 此时，进行有机单胺的同时加料，即，在有机单胺的存在下，通过使氰尿酰卤化合 物与二氨基芳基化合物进行反应，可以获得超支化聚合物的刚性变得缓和且支链度低的柔 性超支化聚合物。采用该方法得到的超支化聚合物，由于其在溶剂中的溶解性(凝聚被抑 制)及其与交联剂的交联性均优良，因此，在作为与后述的交联剂组合而成的组合物使用的 情况下是特别有利的。
[0133] 在此，作为有机单胺，也可以使用烷基单胺、芳烷基单胺、芳基单胺中的任一种。
[0134] 作为烷基单胺，可列举出甲胺、乙胺、正丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、仲丁胺、叔 丁胺、正戊胺、1一甲基一正丁胺、2-甲基一正丁胺、3-甲基一正丁胺、1，1一二甲基一正丙 胺、1，2-二甲基一正丙胺、2,2-二甲基一正丙胺、1 一乙基一正丙胺、正己胺、1 一甲基一正 戊胺、2-甲基一正戊胺、3-甲基一正戊胺、4 一甲基一正戊胺、1，1一二甲基一正丁胺、1， 2-二甲基一正丁胺、1，3-二甲基一正丁胺、2,2-二甲基一正丁胺、2，3 -二甲基一正丁 胺、3，3-二甲基一正丁胺、1一乙基一正丁胺、2-乙基一正丁胺、1，1，2-二甲基一正丙胺、 1，2,2-二甲基一正丙胺、1一乙基一1 一甲基一正丙胺、1一乙基一 2-甲基一正丙胺、2-乙 基己胺等。
[0135] 作为芳烷基单胺的具体例，可列举出苄胺、对甲氧基羰基苄胺、对乙氧基羰基苯基 苄基、对甲基苄胺、间甲基苄胺、邻甲氧基苄胺等。
[0136] 作为芳基单胺的具体例，可列举出苯胺、对甲氧基羰基苯胺、对乙氧基羰基苯胺、 对甲氧基苯胺、1 一萘胺、2-萘胺、蒽胺、1 一氨基花、4一联苯基胺、邻苯基苯胺、4一氨基一 对三联苯、2-氨基芴等。
[0137] 该情况下，相对于氰尿酰卤化合物，有机单胺的使用量优选为0.05~500当量，更 优选为0.05~120当量，进一步优选为0.05~50当量。
[0138] 关于该情况下的反应温度，从抑制线性、提高支链度的观点考虑，反应温度优选为 60~150°C，更优选为80~150°C，进一步优选为80~120°C。但是，有机单胺、氰尿酰卤化合 物以及二氨基芳基化合物这3种成分的混合，也可以在低温下进行，作为该情况的温度，优 选为一 50~50 °C左右，更优选为一 20~50 °C左右，进一步优选为一 20~10 °C。低温加料后， 优选一次性升温至使其聚合的温度(按一阶段升温)进行反应。
[0139] 另外，氰尿酰卤化合物与二氨基芳基化合物这2种成分的混合也可以在低温下进 行，作为该情况的温度，优选为一50~50 °C左右，更优选为一20~50 °C左右，进一步优选 为一 20~10°C。低温加料后，优选加入有机单胺，一次性升温至使其聚合的温度(按一阶段 升温)进行反应。另外，在这种有机单胺的存在下，使氰尿酰卤化合物与二氨基芳基化合物 的反应，也可以使用与上述同样的有机溶剂来进行。
[0140] [交联剂]
[0141] 本发明的组合物含有分子量1，000以上的交联剂A。由此可以提高保护膜的膜密 度，并且可提尚其尚温尚湿耐性。
[0142] 另外，本发明的组合物优选还含有分子量低于1，000的交联剂B。通过加入交联剂 B，可以进一步提尚保护I旲的I旲密度，并且进一步提尚其尚温尚湿耐性。交联剂B的分子量更 优选为900以下，进一步优选为800以下。
[0143] 作为交联剂A和B，可列举出具有作为交联形成基团的羟甲基、甲氧基甲基等交联 形成基团的蜜胺系化合物、取代脲系化合物、具有环氧基或者氧杂环丁烷基等交联形成基 团的化合物、具有封端化(blocked)异氰酸酯的化合物、具有酸酐的化合物、具有（甲基)丙 烯酰基的化合物、氨基塑料化合物、酚醛树脂化合物等。其中，从耐热性和保存稳定性的观 点考虑，优选具有环氧基、封端化异氰酸酯基、（甲基)丙烯酰基的化合物，特别优选具有封 端化异氰酸酯基的化合物、以及即便不使用引发剂也能够形成可光固化的组合物的多官能 环氧化合物和/或多官能（甲基)丙烯酸系化合物。
[0144] 予以说明，这些多官能化合物必须具有至少2个交联形成基团，优选具有3个以上 的交联形成基团。
[0145] 作为多官能环氧化合物，只要是在1分子中具有2个以上环氧基的，就没有特殊限 定。作为其具体例，可列举出三(2,3-环氧丙基)异氰脲酸酯、1，4一丁二醇二缩水甘油醚、 1，2 -环氧一4一（环氧乙基)环己烷、甘油三缩水甘油醚、二甘醇二缩水甘油醚、2,6-二缩 水甘油基苯基缩水甘油酿、1，1，3-二[对一（2，3-环氧丙氧基)苯基]丙烷、1，2-环己烧二 羧酸二缩水甘油酯、4,4'一亚甲基双(N，N-二缩水甘油基苯胺）、3,4一环氧环己基甲基一 3,4一环氧环己烷羧酸酯、三羟甲基乙烷三缩水甘油醚、双酚一 A-二缩水甘油醚、季戊四醇 多缩水甘油醚等。
[0146] 另外，作为市售品，也可以使用：属于具有至少2个环氧基的环氧树脂的：YH-434、 YH - 434L(新日铁住金化学（株）制）；属于具有环氧环己烷结构的环氧树脂的：Epolead GT -401、GT -403、GT -301、GT -302、Celloxide 2021、3000((株)0&1。61制）；属于双酚八型 环氧树脂的：jER(注册商标）1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010、828(三菱化学（株） 制）；属于双酚F型环氧树脂的：jER(注册商标)807(三菱化学(株)制）；属于线型酚醛清漆型 环氧树脂的：jER(注册商标）152、154(三菱化学（株）制）、EPPN201、202(以上由日本化药 (株)制）；属于甲酚一可溶酚醛型环氧树脂的:E0CN - 102、E0CN - 103S、E0CN - 104S、E0CN- 1020、E0CN - 1025、E0CN -1027(日本化药(株）制）、jER(注册商标）180S75(三菱化学（株） 制）；属于脂环式环氧树脂的：Denacol EX - 252(Nagase Chemtex(株）制）、Araldite(注册 商标）CY175、CY177、CY179、CY-182、CY-192、CY-184(HuntsmanAdvancedMaterials& 司制）、Epiclon 200、400(DIC(株）制）、jER(注册商标）871、872(三菱化学（株）制）、ED - 5661、ED - 5662(Celanese Coating(株）制）；属于脂肪族多缩水甘油醚的：Denacol EX - 611、EX - 612、EX - 614、EX - 622、EX - 411、EX - 512、EX - 522、EX - 421、EX-313、EX-314、 EX-321(Nagase Chemtex(株）制）等。
[0147] 作为多官能（甲基)丙烯酸系化合物，只要是1分子中具有2个以上（甲基)丙烯酰基 的，就没有特殊限定。作为其具体例，可列举出二（甲基)丙烯酸乙二醇酯、二（甲基)丙烯酸 聚乙二醇酯、乙氧基化双酚A二（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸 酯、乙氧基化甘油三（甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四（甲基)丙烯酸酯、乙氧基化二季 戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、乙氧基化异氰脲酸三（甲基）丙烯酸酯、三(2 -（甲基）丙烯酰氧 基乙基)异氰脲酸酯、ε-己内酯改性三一（2 -（甲基)丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、聚甘油 一环氧乙烷聚（甲基）丙烯酸酯、聚甘油聚乙二醇聚（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基） 丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸新戊二醇酯、三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、三羟甲基丙烷三（甲 基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二（甲基)丙烯酸酯、二（甲基)丙烯酸1，6 -己二醇酯等。
[0148] 另外，多官能（甲基)丙烯酸系化合物可以作为市售品购得，作为其具体例，可列举 出NK Ester Α-200、Α-400、Α-600、Α-1000、Α-9300、Α-9300 -1CL、A-TMPT、A-TMM- 3、A-TMM-3L、A - TMP、A-TMMT、A - DPH、UA-53H、lG、2G、3G、4G、9G、14G、23G、ABE - 300、 Α-ΒΡΕ - 4、Α-ΒΡΕ - 6、Α-ΒΡΕ - 10、Α-ΒΡΕ - 20、Α-ΒΡΕ - 30、ΒΡΕ - 80Ν、ΒΡΕ-100Ν、ΒΡΕ - 200、ΒΡΕ - 500、ΒΡΕ - 900、ΒΡΕ - 1300N、A-GLY-3E、A-GLY-9E、A-GLY-20Ε、Α-ΤΜΡΤ - 3E0、A - TMPT - 9E0、ATM-4E、ATM-35E、AT - 20E(新中村化学工业（株）制）；KAYARAD(注册 商标)DPEA - 12、PEG400DA、THE - 330、RP -1040(日本化药(株）制）；Aronix(注册商标)Μ- 210、Μ-303、Μ-305、Μ-306、Μ-309、Μ-306、Μ-310、Μ- 313、Μ- 315、Μ- 321、Μ-350、Μ- 360、Μ-400、Μ-402、Μ-403、Μ-404、Μ-405、Μ-406、Μ-408、Μ-450、Μ-452、Μ-460(东 亚合成(株）制）；KAYARAD(注册商标)DPHA、NPGDA、PET30(日本化药(株）制）；NK Ester Α - DPH、A-TMPT、A-DCP、A-HD-N、TMPT、DCP、NPG、HD-N(新中村化学工业（株）制）；NK Oligo U-15HA(新中村化学工业（株）制）；NK Polymer Vanaresin GH -1203(新中村化学工业 (株）制）；EBECRYL(注册商标）11、40、135、140、145、150、180、1142、0TA480、IRR214 - K、 PEG400DA-D(Allnex 社制）等。
[0149] 另外，作为多官能（甲基)丙烯酸系化合物，也可以使用属于多官能氨基甲酸酯丙 烯酸酯的：EBECRYL(注册商标）204、205、210、215、220、230、244、245、270、284、285、264、 265、294/25HD、1259、1290、4820、4858、5120、8210、8254、8301R、8405、8465、8296、8307、 8402、8311、8411、8701、8800、8804、8807、9260、9270、9277EA、KRM7735、8200、8452、8528、 8667、8904(Allnex 社制）；UV-1700B、UV-6300B、UV-7510B、UV -7550V、UV -7550B、UV - 7600B、UV-7605B、UV-7610B、UV-7620EA、UV-7630B、UV-7640B、UV-7650B、（日本合成 化学工业（株）制）；属于多官能聚酯丙烯酸酯的：EBECRYL(注册商标）436、438、446、450、 524、525、800、810、811、812、1830、846、851、852、853、1870、884、885(厶111^^社制）；属于环 氧丙烯酸酯的：EBECRYL(注册商标）600、605、645、648、860、1606、3500、3603、3608、3700、 3701、3702、3703、3708、6040(Allnex 社制）等。
[0150] 作为酸酐化合物，只要是由2分子的羧酸脱水缩合而成的羧酸酐，就没有特殊限 定。作为其具体例，可列举出苯二甲酸酐、四氢苯二甲酸酐、六氢苯二甲酸酐、甲基四氢苯二 甲酸酐、甲基六氢苯二甲酸酐、纳迪克酸酐、甲基纳迪克酸酐、马来酸酐、琥珀酸酐、辛基琥 珀酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐等在分子内具有1个酸酐基的化合物；1，2,3,4一环丁烷四羧 酸二酐、均苯四甲酸酐、3,4一二羧基一1，2,3,4一四氢一1一萘琥珀酸二酐、双环[3.3.0]辛 烷一2，4,6,8-四羧酸二酐、5-（2,5 -二氧代四氢一3-呋喃基）一3-甲基一3-环己烯一 1，2-二羧酸酐、1，2,3,4一丁烷四羧酸二酐、3,3'，4,4'一二苯甲酮四羧酸二酐、3,3'，4， 4' 一联苯基四羧酸二酐、2,2-双(3,4一二羧基苯基)六氟丙二酸酐、1，3-二甲基一1,2，3， 4 一环丁烷四羧酸二酐等在分子内具有2个酸酐基的化合物等。
[0151] 关于含有封端化异氰酸酯的化合物，只要是在其1分子中具有2个以上由异氰酸酯 基（一NC0)被适当的保护基封端而成的封端化异氰酸酯基，一旦被暴露在热固化时的高温 下，保护基(封端部分)就会被热解而离去，而所生成的异氰酸酯基就能引起与树脂之间的 交联反应的，对这样的化合物就没有特殊限定，可列举出例如，在1分子中具有2个以上由下 述式表示的基团（予以说明，这些基团可以相同，也可以各自不同）的化合物。
[0152] [化 15]
[0154] (式中，Rb表示封端部的有机基团。）
[0155] 这类化合物可以通过例如，使适当的封端剂与在1分子中具有2个以上异氰酸酯基 的化合物进行反应来制得。
[0156] 作为在1分子中具有2个以上异氰酸酯基的化合物，可列举出例如，异佛尔酮二异 氰酸酯、1，6 -六亚甲基二异氰酸酯、亚甲基双(4一环己基异氰酸酯）、三甲基六亚甲基二异 氰酸酯等多异氰酸酯、或是它们的二聚物、三聚物、以及它们与二醇类、三醇类、二胺类、或 者三胺类形成的反应物等。
[0157] 作为封端剂，可列举出例如，甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、2 -乙氧基己醇、2 - N， N-二甲氨基乙醇、2 -乙氧基乙醇、环己醇等醇类;苯酚、邻硝基苯酚、对氯苯酚、邻、间或者 对甲酚等苯酚类；ε-己内酰胺等内酰胺类;丙酮肟、甲基乙基酮肟、甲基异丁基酮肟、环己 酮肟、苯乙酮肟、二苯甲酮肟等肟类;吡唑、3,5 -二甲基吡唑、3-甲基吡唑等吡唑类;十二 烧硫醇、苯硫醇等硫醇类等。
[0158] 含有封端化异氰酸酯的化合物也可以作为市售品购入，作为其具体例，可列举出 Β-830、Β-815Ν、Β-842Ν、Β-870Ν、Β-874Ν、Β-882Ν、Β-7005、Β-7030、Β-7075、Β- 5010(三井化学（株）制）、Duranate(注册商标）17Β - 60PX、TPA-B80E、MF-B60X、MF-K60X、 E402-B80T(旭化成Chemicals(株）制）、Karenz Μ0Ι -BM(注册商标）（昭和电工(株）制）等。
[0159] 作为氨基塑料(aminoplast)化合物，只要是在1分子中具有2个以上甲氧基亚甲基 的，就没有特殊限定。可列举出例如，CYMEL(注册商标)303(六甲氧基甲基蜜胺）、1170(四丁 氧基甲基甘脲）、1123(四甲氧基甲基苯胍胺）（Allnex社制）等Cymel系列；属于甲基化蜜胺 树脂的、Nikalac(注册商标)MW-30HM、Mff - 390、MW - 100LM、MX - 750LM;属于甲基化脲树脂 的、MX-270、MX-280、MX-290((株)三和Chemical制）等Nikalac系列等蜜胺系化合物。
[0160] 作为氧杂环丁烷化合物，只要是在1分子中具有2个以上氧杂环丁烷基的，就没有 特殊限定，可列举出例如，含有氧杂环丁烷基的0ΧΤ - 221、0X - SQ - Η、0Χ - SC(东亚合成 (株)制)等。
[0161] 酚醛树脂化合物是这样一类化合物，即，在其1分子中具有2个以上羟基亚甲基，而 且一旦暴露在热固化时的高温下就能通过与本发明中使用的超支化聚合物之间的脱水缩 合反应来进行交联反应的化合物。作为酚醛树脂化合物，可列举出例如，2,6-二羟甲基一 4一甲基苯酚、2,4一二羟甲基一6-甲基苯酚、双(2 -羟基一3-羟甲基一5-甲基苯基）甲 烷、双(4一羟基一3-羟甲基一5-甲基苯基）甲烷、2，2-双(4一羟基一3,5-二羟甲基苯 基）丙烷、双（3-甲酰基一4 -羟苯基）甲烷、双(4 -羟基一2,5 -二甲基苯基）甲酰基甲烷、 α，α-双(4一羟基一2,5-二甲基苯基）一4一甲酰基甲苯等。
[0162] 酚醛树脂化合物也可以作为市售品购入，作为其具体例，可列举出2 6 D Μ P C、 46DM0C、DM-BIPC-F、DM-BIOC-F、TM-BIP-A、BISA-F、BI25X-DF、BI25X-ΤΡΑ(旭有机 材工业(株)制)等。
[0163] 交联剂Α优选通过交联形成基团间的链长长而使其分子量在1，000以上的化合物， 具体地说，优选是通过具有聚醚结构、聚酯结构、聚氨酯结构等而使交联形成基团间的链长 长的化合物。上述的交联剂中，作为交联剂A，可列举出NK Ester A-GLY - 20E、ATM-35E、 AT -20E、23G、A-ΒΡΕ -20BPE -900、BPE-1300N(新中村化学工业（株）制）、EBECRYL(注册 商标）204、205、210、215、230、244、245、270、284、285、264、265、294/25HD、1259、1290、4820、 8254、8301R、8405、8465、8296、8307、8411、8701、8800、8804、9260、9277EA、KRM8200、8452、 8528、8667、8904、436、438、446、450、525、1830、846、1870、884、885、860、3708(Allnex社 制）、UV-1700B、UV-6300B、UV-7510B、UV-7550V、UV-7550B、UV-7600B、UV-7605B、 UV-7610B、UV-7620EA、UV - 7630B、UV-7640B、UV - 7650B、（日本合成化学（株）制）等。其 中，优选NK Ester A-GLY-20E、ATM-35E等。
[0164] 另外，上述的交联剂中，作为分子量低于1，000的交联剂B，可列举出Aronix(注册 商标）Μ-303、M-305、M-305、M-306、M-400、M-402、M-403、M-404、M-405、M-406、 M -450、M -452(东亚合成（株）制）、NK Ester A -9300、A -9300 -1CL、A -TMM -3、A - TMM - 3L、A-TMPT、A-TMP、A-TMMT、A-DPH、lG、2G、3G、4G、9G、14G、ABE - 300、A-BPE - 4、 A-BPE - 6、A-BPE- 10、A-BPE - 20、A - BPE - 30、BPE - 80N、BPE - 100N、BPE - 200、BPE - 500(新中村化学工业(株）制）、EBECRYL(注册商标）11、40、135、140、145、150、180、800、853、 860、1142、4858、5129、8210、600、605、645、648、1606、3500、3603、3608、3700、3701、3702、 3703、60400TA480(Allnex社制）等。其中，优选Aronix(注册商标)Μ-303、M-305、M- 305、 M-306、M-400、M-402、M-403、M-404、M-405、M-406、M-450、M-452(东亚合成（株） 制）、NK Ester A-9300、A-9300 - 1CL(新中村化学工业(株)制）等。
[0165] 作为交联剂A和B，从能够抑制由于配合交联剂所导致的折射率降低、同时使固化 反应迅速进行的观点考虑，优选为多官能（甲基)丙烯酸系化合物。
[0166] 交联剂A和B可以各自单独使用，也可以将2种以上组合使用。相对于含三嗪环超支 化聚合物100质量份，交联剂A的使用量优选为0.1~30质量份，考虑到耐溶剂性，其下限优 选为1质量份，更优选为5质量份，进而，考虑到控制折射率，其上限优选为25质量份，更优选 为20质量份。相对于交联剂A 100质量份，交联剂B的使用量优选为0.5~400质量份，更优选 为50~200质量份。如果低于0.5质量份，则没有改善透明导电膜的保护效果，如果超过400 质量份，则往往导致折射率显著降低。
[0167] [溶剂]
[0168] 本发明的组合物中，优选添加各种溶剂，将含三嗪环超支化聚合物溶解后使用。该 情况下，溶剂可以与聚合时所用的溶剂相同，也可以是其他溶剂。该溶剂只要不损害与聚合 物的相溶性，就没有特殊限定。
[0169] 作为可使用的溶剂的具体例，可列举出甲苯、对二甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、乙 苯、苯乙烯、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单甲醚、丙二醇、丙二醇单乙醚、乙二醇单 乙醚、乙二醇单异丙醚、乙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇乙基醚乙酸 酯、二甘醇二甲醚、丙二醇单丁醚、乙二醇单丁醚、二甘醇二乙基醚、二丙二醇单甲醚、二甘 醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二甘醇单乙醚、三甘醇二甲醚、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘 醇、1 一辛醇、乙二醇、己二醇、三亚甲基二醇、1 一甲氧基一 2- 丁醇、环己醇、二丙酮醇、糠 醇、四氢糠醇、丙二醇、苄醇、1，3- 丁二醇、1，4一丁二醇、2,3- 丁二醇、γ-丁内酯、丙酮、 甲基乙基酮、甲基异丙基酮、二乙基酮、甲基异丁基酮、甲基正丁基酮、环己酮、乙酸乙酯、乙 酸异丙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丁酯、乙酸正丁酯、乳酸乙酯、甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、烯 丙醇、正丙醇、2 -甲基一 2- 丁醇、异丁醇、正丁醇、2 -甲基一 1 一丁醇、1 一戊醇、2 -甲基一 1 一戊醇、2-乙基己醇、1 一甲氧基一 2-丙醇、四氢呋喃、1，4一二^恶烷、Ν，Ν-二甲基甲酰 胺、Ν，Ν-二甲基乙酰胺、Ν-甲基吡咯烷酮、1，3-二甲基一2-咪唑烷酮、二甲亚砜、Ν-环 己基一 2-吡咯烷酮等。它们可以单独使用1种，也可以将2种以上混合使用。
[0170] 此时，组合物中的固体成分浓度只要处于对保存稳定性没有影响的范围内，就没 有特殊限定，可以根据目标膜厚适宜设定即可。具体而言，从溶解性和保存稳定性的观点考 虑，固体成分浓度优选为〇. 1~50质量％，更优选为0.2~40质量％。
[0171] [引发剂]
[0172] 本发明的组合物中，也可以配合与各交联剂相对应的引发剂。予以说明，如上所 述，在使用多官能环氧化合物和/或多官能（甲基)丙烯酸系化合物作为交联剂的情况下，ΒΡ 便不使用引发剂，也可以进行光固化而形成固化膜，但该情况下使用引发剂也无妨。
[0173] 在使用多官能环氧化合物作为交联剂的情况下，可以使用光酸发生剂或光碱发生 剂。
[0174] 作为光酸发生剂，只要从公知的光酸发生剂中适宜选择使用即可，可以使用例如， 重氮镇盐、锍盐、碘输盐等播盐衍生物。作为其具体例，可列举出六氟磷酸苯基重氮镇盐、 六氟锑酸4一甲氧基苯基重氮镇盐、六氟磷酸4一甲基苯基重氮鑛盐等芳基重氮镇盐;六 氟锑酸二苯基碘猶盐、六氟磷酸二(4 一甲基苯基)碘鑛盐、六氟磷酸二(4 一叔丁基苯基)碘 猶盐等二芳基碘银盐;六氟锑酸三苯基锍盐、六氟磷酸三(4 一甲氧基苯基)锍盐、六氟锑酸 二苯基一4一硫代苯氧基苯基锍盐、六氟磷酸二苯基一4一硫代苯氧基苯基锍盐、4，4'一双 (二苯基磺酸基（sulfonio))苯基硫醚一双六氟锑酸盐、4，4 ' 一双（二苯基磺酸基）苯基硫 醚一双六氟磷酸盐、4,4'一双[二(β-羟基乙氧基)苯基磺酸基]苯基硫醚一双六氟锑酸盐、 4,4'一双[二(β-羟基乙氧基)苯基磺酸基]苯基硫醚一双一六氟磷酸盐、4一[4'一（苯甲酰 基)苯基硫代]苯基一二(4一氣苯基)六氣铺酸锍盐、4一 [4 ' 一（苯甲酰基)苯基硫代]苯基一 二(4一氟苯基)六氟磷酸锍盐等三芳基锍盐等。
[0175] 这些错盐可以使用市售品，作为其具体例，可列举出San-Aid SI - 60、SI - 80、 SI-100、SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-L145、SI-L150、SI-L160、SI-L110、SI-L147 (三新化学工业（株）制）；UVI -6950、UVI-6970、UVI -6974、UVI -6990、UVI -6992(Union Carbide 公司制）；CPI - 100P、CPI -100A、CPI -200K、CPI - 200S(San-Apro(株）制）；Adeka 0ptomerSP-150、SP-151、SP-170、SP-171((株）ADEKA制）；Irgacure(注册商标）261 (BASF公司制）；CI -2481、CI -2624、CI -2639、CI -2064(日本曹达（株）制）；CD-1010、 CD -1011、CD-1012(Sartomer社制）；DS-100、DS-101、DAM-101、DAM-102、DAM-105、 DAM -201、DSM -301、NAI -100、NAI -101、NAI -105、NAI -106、SI -100、SI -101、SI - 105、SI - 106、PI - 105、NDI - 105、BENZ0INT0SYLATE、MBZ - 101、MBZ - 301、PYR-100、 PYR-200、DNB-101、NB-101、NB-201、BBI-101、BBI-102、BBI-103、BBI-109(Midori 化学(株）制）；PCI -061T、PCI-062T、PCI -020T、PCI -022T(日本化药(株）制）；IBPF、IBCF (三和Chemical (株）制）等。
[0176] 光碱发生剂也是只要从公知的碱发生剂中适宜选择使用即可，可以使用例如， Co-胺配合物系、肟羧酸酯系、氨基甲酸酯系、季铵盐系光碱发生剂等。作为其具体例，可列 举出2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯、三苯基甲醇、0-氨基甲酰基羟基酰胺、0-氨基甲酰 基肟、[[(2,6-二硝基苄基)氧基]羰基]环己胺、双[[(2-硝基苄基)氧基]羰基]己烷1，6 - 二胺、4一（甲基硫代苯甲酰基）一 1一甲基一 1 一吗啉代乙烷、（4一吗啉代苯甲酰基）一 1一苄 基一 1 一二甲氨基丙烷、N -（2-硝基苄氧基羰基)吡咯烷、六氨合钴（III)三(三苯基甲基硼 酸盐）、2 -苄基一2-二甲氨基一 1 一（4 一吗啉代苯基）一丁酮、2,6-二甲基一3,5 -二乙酰 基一4一（2'一硝基苯基）一 1，4一二氢吡啶、2，6-二甲基一3，5-二乙酰基一4一（2'，4'一 二硝基苯基）一 1，4一二氢吡啶等。另外，作为光碱发生剂也可以使用市售品，作为其具体 例，可列举出TPS-OH、NBC-101、ANC-101(均为制品名，Midori化学(株)制)等。
[0177] 在使用光酸发生剂或光碱发生剂的情况下，相对于多官能环氧化合物100质量份， 优选在0.1~15质量份的范围内使用，更优选在1~10质量份的范围内使用。
[0178] 予以说明，也可以根据需要，相对于多官能环氧化合物100质量份，按1~100质量 份的量配合环氧树脂固化剂。
[0179] 另一方面，在使用多官能（甲基)丙烯酸系化合物的情况下，可以使用光自由基聚 合引发剂。作为光自由基聚合引发剂，只要从公知的光自由基聚合引发剂中适宜选择使用 即可，可列举出例如，苯乙酮类、二苯甲酮类、米蚩勒氏(Michler's)苯甲酰基苯甲酸酯、戊 基月亏(amyloxime)酯、一硫化四甲基秋兰姆和噻吨酮类等。
[0180] 特别优选光分解型的光自由基聚合引发剂。对于光分解型的光自由基聚合引发 剂，记载于最新UV固化技术(第159页、发行人:高薄一弘、发行所：（株)技术情报协会、1991 年发行)中。
[0181] 作为市售的光自由基聚合引发剂，可列举出例如，Irgacure(注册商标）127、184、 369、379、651、500、819、907、784、2959、0XE01、0XE02、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24- 61、Darocur 1116、1173、Lucirin TP0(BASF公司制）、UVECRYL(注册商标）P36(Cytec Surface Specialties社制）、ESACURE(注册商标）KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、 KT046、KIP75/B(Fratelli Lamberti社制）等。
[0182] 在使用光自由基聚合引发剂的情况下，相对于多官能（甲基)丙烯酸酯化合物100 质量份，优选在0.1~15质量份的范围内使用，更优选在0.1~10质量份的范围内使用。
[0183] [其他成分]
[0184] 本发明的膜形成用组合物中，只要不损害本发明的效果，也可以含有其他的成分， 例如，勾涂剂（leveling agents)、表面活性剂等。
[0185]作为匀涂剂或者表面活性剂，可列举出例如，聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯十八 烷基醚、聚氧乙烯十六烷基醚、聚氧乙烯油酰基醚等聚氧乙烯烷基醚类;聚氧乙烯辛基苯酚 醚、聚氧乙烯壬基苯酚醚等聚氧乙烯烷基芳基醚类;聚氧乙烯?聚氧丙烯嵌段共聚物类;脱 水山梨糖醇单月桂酸酯、脱水山梨糖醇单棕榈酸酯、脱水山梨糖醇单硬脂酸酯、脱水山梨糖 醇单油酸酯、脱水山梨糖醇三油酸酯、脱水山梨糖醇三硬脂酸酯等脱水山梨糖醇脂肪酸酯 类;聚氧乙烯脱水山梨糖醇单月桂酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇单棕榈酸酯、聚氧乙烯脱水 山梨糖醇单硬脂酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇三油酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇三硬脂酸 酯等聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯类等非离子型表面活性剂;Ef top(注册商标)EF301、 EF303、EF352(三菱 Materials电子化成（株）制）、Megafac(注册商标)F171、F173、R-08、R- 30、R -40、R -43、F -553、F -554、F -556、F -559、RS -75、RS -72 -K(DIC(株）制）、 FLUORAD(注册商标)FC430、FC431(3M公司制）、Asahi Guard(注册商标)AG710(旭硝子(株） 制）、Surflon(注册商标）S -382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(AGC Seimi Chemical(株）制）等氟系表面活性剂；有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业(株）制）、 ΒΥΚ-302、ΒΥΚ-307、ΒΥΚ-322、ΒΥΚ-323、ΒΥΚ-330、ΒΥΚ-333、ΒΥΚ-370、ΒΥΚ-375、ΒΥΚ- 378(ΒΥΚ社制）等。
[0186] 它们可以单独使用1种，或者将2种以上组合使用。相对于含三嗪环超支化聚合物 100质量份，表面活性剂的使用量优选为〇. 0001~5质量份，更优选为0.001~1质量份，进一 步优选为0.01~0.5质量份。
[0187] 予以说明，上述其他的成分可以在调制本发明组合物时的任意工序中添加。
[0188] [透明导电膜用保护膜]
[0189] 本发明的透明导电膜用保护膜可以通过将上述的透明导电膜用保护膜形成组合 物涂布在透明导电膜上，然后根据需要进行加热使溶剂蒸发后，通过加热或者光照射来形 成。
[0190] 保护膜的膜密度优选为1.20~1.45g/cm3,更优选为1.30~1.45g/cm3。如果膜密度 低于1.20g/cm 3，则往往会招致电阻值的变化率增大。
[0191] 关于本发明的保护膜的折射率的范围，其下限值优选为1.60,更优选为1.65,进一 步优选为1.70。对于其上限值没有特殊限定，为1.95~2.00左右。
[0192] 本发明的保护膜的膜厚优选为10~l，000nm，更优选为50~200nm。
[0193] 另外，形成本发明保护膜的透明导电膜的雾度值，优选为1.5%以下，更优选为 1.0%以下。
[0194]组合物的涂布方法是任意的，可以采用例如，旋转涂布法、浸涂法、浇涂法、喷墨 法、喷涂法、刮条涂布法、凹槽辊涂布法、狭缝涂布法、辊涂法、转印法、刷涂法、刮板涂布法、 气刀涂布法等方法。
[0195]作为透明导电膜，优选是ΙΤ0膜、ΙΖ0膜、诸如金属纳米粒子、金属纳米线、金属纳米 网状物等具有导电性纳米结构的透明导电膜，更优选具有导电性纳米结构的透明导电膜。 对于作为构成导电性纳米结构的金属没有特殊限定，可列举出银、金、铜、镍、铂、钴、铁、锌、 钌、铑、钯、镉、锇、铱、及其合金等。即，优选为具有银纳米粒子、银纳米线、银纳米网状物、金 纳米粒子、金纳米线、金纳米网状物、铜纳米粒子、铜纳米线、铜纳米网状物等的透明导电 膜，特别优选为具有银纳米线的透明导电膜。
[0196] 关于烘烤温度，只要能达到使溶剂蒸发的目的，就没有特殊限定，可以在例如40~ 400°C下进行。作为烘烤方法，没有特殊限定，只要采用例如，使用加热板或烘箱，在大气、氮 等惰性气体、真空等适当的气氛中使溶剂蒸发即可。烘烤温度和烘烤时间可以根据目标的 电子器件的加工工序来选择适合条件，或者根据能使所获膜的物性值满足电子器件的要求 特性来选择适合的烘烤条件。
[0197] 对于进行光照射时的条件也没有特殊限定，只要根据所使用的含三嗪环超支化聚 合物和交联剂，采用适宜的照射能量和时间即可。例如，可以按50~1，OOOmJ/cm 2的条件来 进行。另外，光照射优选在大气或者氮等惰性气体气氛中进行。
[0198] 本发明的保护膜特别适合作为具有导电性纳米结构的透明导电膜的保护膜。具有 导电性纳米结构的透明导电膜由于导电性纳米结构引起光的漫反射，因此容易导致白浊 化，往往会使可见性变差。本发明的保护膜由于透明性和折射率高，因此可以防止由于使用 导电性纳米结构导致透明导电膜的光的漫反射所引起的白浊化，从而能改善可见性。进而， 由于具有高的耐热性和耐高温高湿性，因此也能对防止透明导电膜的劣化作出贡献。因此， 本发明的保护膜适宜用作透明电极用部件。另外，由于能够达到更高的溶解性和更低的体 积收缩，因此可以适用于在制作液晶显示器、有机电致发光(EL)显示器、触摸屏、光半导体 (LED)元件、固体摄像元件、有机薄膜太阳能电池、色素增感太阳能电池、有机薄膜晶体管 (TFT)等电子器件时的一种部件。
[0199] 实施例
[0200] 以下列举出合成例、调制例、实施例和比较例，更具体地说明本发明，但本发明不 限定于下述的实施例。予以说明，实施例中使用的各测定装置如下。
[0201] [^-NMR]
[0202] 装置：Varian NMR System 400NB(400MHz)
[0203] JE0L-ECA700( 700MHz)
[0204] 测定溶剂:DMS0-d6
[0205] 基准物质：四甲基硅烷(TMS) (δ〇 · 〇ppm)
[0206] [GPC]
[0207] 装置：Tosoh(株）制HLC-8200GPC
[0208] 柱：Shodex KF-8041+KF-8051
[0209] 柱温：40 Γ
[0210] 溶剂：四氢咲喃(THF)
[0211]检测器：UV(254nm)
[0212] 校正曲线:标准聚苯乙烯
[0213] [椭圆计]
[0214] 装置:JA Woollam Japan(株）制多入射角分光椭圆计VASE [0215][差热天秤(TG-DTA)]
[0216]装置：（株)Rigaku 制 TG-8120 [0217] 升温速度：1(TC/分钟 [0218]测定温度：25 - 750°C
[0219] [高温高湿试验器]
[0220] 装置:ESPEC(株）制Lightspec 恒温（恒湿)器 LHU-113
[0221] [雾度(HAZE)]
[0222] 装置：日本电色工业(株)制雾度计NDH5000
[0223] [光学显微镜]
[0224] 装置:OLYMPUS (株)制研究用系统显微镜BX51
[0225] [非接触式薄膜电阻测定器]
[0226] 装置：Napson(株）EC-80
[0227] [膜密度测定]
[0228] 装置:Bruker AXS公司制多功能薄膜材料评价X射线衍射装置D8DISC0VER [0229][合成例1]含三嗪环超支化聚合物的合成
[0230][化 16]
[0232] 在氮气氛下，向l，000mL四口烧瓶中加入二甲基乙酰胺(DMAc)456.02g，用丙酮一 干冰浴冷却至一l〇°C，加入2,4,6 -三氯一1，3,5 -三嗪[1](84.838、0.460111〇14￥〇1^1^ Degussa公司制），使其溶解。然后，滴加溶解于DMAc 304.01g中的间苯二胺[2](62.18g、 0.575mol)以及苯胺（14.57g、0.156mol)。滴加后搅拌30分钟，用进料栗花1小时将该反应溶 液滴加到预先在2,000mL四口烧瓶中加入DMAc 621.85g并用油浴加热至85°C的反应器中， 搅拌1小时使其聚合。
[0233] 然后，加入苯胺（113.95g、1.224mol)，搅拌1小时后停止反应。用冰浴冷却至室温 后，滴加三乙胺（116.36g、1.15mo 1)，搅拌30分钟，用盐酸急冷。然后，过滤除去析出的盐酸 盐。将过滤后的反应溶液用28质量％氨水(279.29g)与去离子水8，820g的混合溶液使其再 沉淀。将沉淀物过滤，用减压干燥机在150°C下干燥8小时后，使其再溶解于THF 833. lg中， 用去离子水6，665g使其再沉淀。将所获沉淀物过滤，用减压干燥机在150°C下干燥25小时， 得到作为目标的超支化聚合物[3 ](以下称为HB - TmDA40) 118.0g。
[0234] 冊一1'11^40的1!1一匪1?谱的测定结果示于图1。冊一1'11^40的]\^为4,300，分散度为 3.44〇
[0235] (1)耐热性试验
[0236] 对于合成例1中制得的HB - TmDA40进行TG - DTA测定，结果示于图2。5%重量减少 时为419°C。
[0237] (2)折射率测定
[0238] 将合成例1中制得的HB - TmDA40 0.5g溶解于环己酮4.5g中，得到浅黄色透明溶 液。使用旋转涂布机，按200rpm 5秒钟、2，000rpm 30秒钟，将所获溶液旋转涂布到玻璃基板 上，在150 °C下加热1分钟、在250 °C下加热5分钟以除去溶剂，得到膜厚500nm的被膜。测定所 获被膜的折射率，得到550nm下的折射率为1.790。
[0239] [调制例1]
[0240] 将合成例1中制得的HB -TmDA40 100g溶解于环己酮384.0g、去离子水16.0g的混 合溶剂中，调制20质量％的溶液（以下称为HB - TmDA40Vl)。
[0241 ][调制例2]银纳米线分散液的调制
[0242] 将银纳米线分散液50g(Clear0hm、Cambrios Technologies Corporation公司制） 用异丙醇50g稀释，调制导电性油墨A。
[0243] [调制例3]透明导电膜的制作
[0244] 采用旋转涂布法，将调制例2中调制的导电性油墨A在无碱玻璃基板上按200rpm、5 秒、然后再按900rpm、30秒成膜后，在加热板上在120°C下干燥1分钟，制作透明导电膜。
[0245] [实施例1]保护膜形成组合物的调制1
[0246] 加入调制例1中调制的HB-TmDA40Vl 5.0g、10质量％环己酮溶液的A-9300(分子 量423、新中村化学工业(株)制）0.5g、60质量％环己酮溶液的乙氧基化季戊四醇四丙烯酸 酯(ATM-35E、350mPa · s、分子量1，892、新中村化学工业(株)制）0.167g、5质量％环己酮溶 液的光自由基引发剂I rgacur e 184 (BASF公司制）1.6g、l质量％环己酮溶液的表面活性剂 Megafac R-30-N(DIC(株）制）0.05g、去离子水1.35g、以及环己酮32.4g，目视确认溶解， 调制总固体成分浓度为3质量％的清漆（以下称为HB - TmDA40VFl)。
[0247] [实施例2]保护膜形成组合物的调制2
[0248] 加入调制例1中调制的HB-TmDA40Vl 1.0g、10质量％环己酮溶液的Μ-403 [ 5官能 丙烯酸酯(分子量524)与6官能丙烯酸酯(分子量579)的混合物、东亚合成(株)制]0.4g、10 质量％环己酮溶液的乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(ATM-35E、350mPa · s、分子量1，892、 新中村化学工业(株)制）〇.2g、5质量％环己酮溶液的光自由基引发剂Irgacure 184(BASF 公司制)0.32g、l质量％环己酮溶液的表面活性剂Megafac R - 30-N(DIC(株)制)0.01g、去 离子水0.29g、以及环己酮8.47g，目视确认溶解，调制总固体成分浓度为3质量％的清漆（以 下称为HB - TmDA40VF2)。
[0249][实施例3]保护膜形成组合物的调制3
[0250] 加入调制例1中调制的HB - TmDA40Vl 1.0g、60质量％环己酮溶液的乙氧基化甘油 三丙烯酸酯(A-GLY-20E、200mPa · s、分子量1，295、新中村化学工业(株)制）0.033g、60质 量％环己酮溶液的乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(ATM-35E、分子量l，892、350mPa · s、新 中村化学工业(株)制）〇.〇33g、5质量％环己酮溶液的光自由基引发剂Irgacure 184(BASF 公司制)0.32g、l质量％环己酮溶液的表面活性剂Megafac R - 30-N(DIC(株)制)0.01g、去 离子水0.37g、以及环己酮8.47g，目视确认溶解，调制总固体成分浓度为3质量％的清漆（以 下称为HB - TmDA40VF3)。
[0251] [实施例4~6]折射率的测定
[0252] 将实施例1~3中调制的各清漆在钠钙玻璃基板上用旋转涂布机以200rpm旋转涂 布5秒、以1，OOOrpm旋转涂布30秒，用烘箱在130 °C下烘烤3分钟。然后，用高压水银灯在大气 中（实施例4和6)或者在氮气氛下（实施例5)、以积分曝光量400mJ/cm 2使其固化，得到膜厚 100nm的固化膜。所获膜的折射率的测定结果示于表1。
[0255] [实施例7~9]膜密度的测定
[0256] 将实施例1~3中调制的各清漆在硅晶片基板上用旋转涂布机以200rpm旋转涂布5 秒、以1，OOOrpm旋转涂布30秒，用烘箱在130 °C下烘烤3分钟。然后，用高压水银灯在大气中 或者在氮气氛下、以积分曝光量400mJ/cm2使其固化，得到膜厚lOOnm的固化膜。对这些固化 膜进行XRR测定，计算出膜密度。表2中示出各实施例中使用的清漆、曝光环境、膜密度的测 定结果。
[0259 ][实施例10~14、比较例1 ]雾度值、薄膜电阻值的测定
[0260] 在调制例3中制作的透明导电膜上，将实施例1~3中调制的各清漆按照使固体成 分成为2%的条件用环己酮稀释，用旋转涂布机以200rpm旋转涂布5秒、以1，000rpm旋转涂 布30秒，用烘箱在130°C下烘烤3分钟。然后，用高压水银灯在大气中或者在氮气氛下、以积 分曝光量400mJ/cm 2使其固化，形成膜厚50nm的保护膜，测定雾度值(实施例10~14)。予以 说明，作为比较例1，测定调制例3中制作的透明导电膜的雾度值。表3中示出各实施例中使 用的清漆、曝光环境、以及实施例、比较例中测定的雾度值的测定结果。
[0261] [表 3]
[0263] 另外，对于上述实施例10~14、比较例1中使用的样品，将各样品放入内部(槽内） 温度设定为85°C、相对湿度设定为85%的恒温恒湿试验箱(试验器）中，测定保持47、168、 360和500小时后的、薄膜电阻变化。其结果示于表4。予以说明，表4中Oh表示样品制作之后 的薄膜电阻。
[0264] [表 4]
[0266] 透明导电膜的导电性的降低对器件的性能有很大影响。可以看出，本发明的保护 膜具有改善透明导电膜的可见性、抑制透明导电膜的劣化的效果。还可以看出，特别是在实 施例12中，电阻值的变化率也减小了。
[0267] [调制例4]
[0268] 将合成例1中制得的HB -TmDA40 100g溶解于环戊酮384.0g、去离子水16.0g的混 合溶剂中，调制20质量％的溶液（以下称为HB - TmDA40VP 1)。
[0269][实施例15]保护膜形成组合物的调制4
[0270] 加入调制例4中调制的HB - TmDA40VPl 0.08g、10质量％环戊酮/去离子水（96/4) 混合溶液的DN0075(3,000~5,000mPa · s、日本化药(株)制）0.78g、10质量％环戊酮/去离 子水(96/4)混合溶液的乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(ATM-35E、分子量1，892、350mPa · s、新中村化学工业(株）制）〇 .〇33g、5质量％环己酮溶液的光自由基引发剂Irgacure 127 (BASF公司制）0.06g、l质量％环己酮溶液的表面活性剂Megafac R -40(DIC(株）制） 0.002g、去离子水0.16g、以及环己酮3.88g，目视确认溶解，调制总固体成分浓度为2质量％ 的清漆（以下称为HB - TmDA40VPFl)。
[0271][实施例16]涂膜的折射率测定
[0272] 将实施例15中调制的HB - TmDA40VPFl在钠钙玻璃基板上用旋转涂布机以200rpm 旋转涂布5秒、以1，500rpm旋转涂布30秒，用烘箱在120 °C下烘烤3分钟。然后，用高压水银灯 在氮气中、以积分曝光量400mJ/cm2使其固化，得到膜厚57nm的固化膜。所获膜的折射率为 1.5683(波长550nm) 〇 [0273][实施例17]
[0274]在调制例3中制作的透明导电膜上，将实施例15中调制的HB - TmDA40VPFl用旋转 涂布机以200rpm旋转涂布5秒、以1，500rpm旋转涂布30秒，用烘箱在120 °C下烘烤3分钟。然 后，用高压水银灯在氮气氛下、以积分曝光量400mJ/cm2使其固化，形成膜厚80nm的保护膜， 测定雾度值，结果为0.74 %。
[0275][实施例18]
[0276]将实施例17中制得的样品放入槽内温度设定为85°C、相对湿度设定为85 %的恒温 恒湿试验器中，测定保持168、500小时后的、薄膜电阻变化。其结果示于表5。予以说明，表5 中Oh表示样品制作之后的薄膜电阻。 [0277][表 5]
【主权项】
1.透明导电膜用保护膜形成组合物，其特征在于，其含有包含由下述式（1)表示的重复 单元结构的含Ξ嗦环超支化聚合物W及分子量l，〇〇〇W上的交联剂A: [化1]{式中，R和R'相互独立地表示氨原子、烷基、烷氧基、芳基或者芳烷基； Ar表示选自由式(2)~（13)所示基团构成的组中的至少巧巾基团； [化2][式中，Ri~R92相互独立地表示氨原子、面原子、簇基、横基、碳数1~10的烷基或者碳数 1~10的烷氧基； R93和R94表示氨原子或者碳数1~10的烷基； W哺W2相互独立地表示单键、一C(R95) (R96) - (R9哺R9哺互独立地表示氨原子或者碳数 1~10的烷基；当R95和R96皆为烷基时，它们也可W相互键合并与它们键合的碳原子一起形 成环）、一c(o) -、一0-、一 S-、一 S (0) -、一 S(0) 2-或者一n(r97) - (r9 嗦不氨原子或者碳 数1~10的烷基）； χ?和X2相互独立地表示单键、碳数1~10的亚烷基或者由式（14)表示的基团； [化3](式中，R98~Riw相互独立地表示氨原子、面原子、簇基、横基、碳数1~10的烷基或者碳 数1~10的烷氧基； γ?和Y2相互独立地表示单键或者碳数1~10的亚烷基）]}。2. 权利要求1所述的组合物，其中，交联剂A为多官能（甲基)丙締酸系化合物。3. 权利要求1或2所述的组合物，其中，相对于上述含Ξ嗦环超支化聚合物100质量份， 含有交联剂A 0.1~30质量份。4. 权利要求1~3的任1项所述的组合物，其中还含有分子量低于！，000的交联剂B。5. 权利要求4所述的组合物，其中，交联剂B为多官能（甲基)丙締酸系化合物。6. 权利要求4或5所述的组合物，其中，相对于交联剂A 100质量份，含有交联剂B 0.5~ 400质量份。7. 权利要求1~6的任1项所述的组合物，其中还含有溶剂。8. 透明导电膜用保护膜，其为通过使权利要求1~7的任1项所述的组合物固化而得到 的。9. 权利要求8所述的保护膜，其中，透明导电膜为具有导电性纳米结构的透明导电膜。10. 权利要求9所述的保护膜，其中，导电性纳米结构为银纳米线。11. 透明电极，其具备透明导电膜W及在该透明导电膜上形成的权利要求8所述的保护 膜。12. 电子器件，其具备透明导电膜W及在该透明导电膜上形成的权利要求8所述的保护 膜。13. 权利要求12所述的电子器件，其为有机电致发光显示器。
【文档编号】H01L21/312GK105980497SQ201480075526
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2014年12月17日
【发明人】悴山高大, 西村直也
【申请人】日产化学工业株式会社